工业用水与纯水有什么区别？

工业用水与纯水在定义、制备工艺、水质标准及用途上存在显著差异，两者的核心区别主要体现在纯度要求、杂质控制及适用场景上。以下是详细分析：　　

１．　定义与分类

•　工业用水　　

　　广义上指工业生产中使用的各类水源，包括冷却水、工艺用水、锅炉补给水等，其水质要求因用途而异。例如，冷却水需控制硬度与悬浮物，锅炉用水则需低溶解氧和低盐分以防腐蚀。水源多为地表水、地下水或再生水，仅需常规处理（如沉淀、过滤）即可满足需求。　　

•　纯水　　

　　通过深度净化技术（如反渗透、离子交换）去除绝大部分杂质的水，根据纯度分为：　　

　　•　工业纯水：电导率≤１μＳ／ｃｍ（电阻率≥１ＭΩ·ｃｍ），用于电子元件清洗、化工循环水等。　　

　　•　超纯水：电阻率≥１８ＭΩ·ｃｍ（电导率≤０．０５５６μＳ／ｃｍ），近乎无杂质，适用于半导体制造、高精度实验。　　

２．　水质标准与杂质控制

•　工业用水　　

　　以功能性指标为主，如冷却水需浊度≤５ＮＴＵ，锅炉用水要求总溶解固体（ＴＤＳ）＜５０ｍｇ／Ｌ。允许微量离子和有机物存在，但需避免结垢或微生物滋生。　　

•　纯水　　

　　核心指标为电导率、总有机碳（ＴＯＣ）及微粒数。例如，电子级超纯水要求硅含量≤２μｇ／Ｌ，细菌数≤０．０１个／ｍＬ。反渗透出水（如家用纯净水）电导率约５～５０μＳ／ｃｍ，远高于工业纯水标准。　　

３．　制备工艺差异

•　工业用水处理　　

　　通常采用混凝沉淀、砂滤、消毒等常规工艺，成本较低。例如，再生水用于工业时需去除氨氮（≤１ｍｇ／Ｌ）。　　

•　纯水制备　　

　　需多级纯化：　　

　　•　反渗透（ＲＯ）：脱盐率≥９５％，产出基础纯水。　　

　　•　超纯水系统：结合ＲＯ、电去离子（ＥＤＩ）、紫外杀菌等，半导体行业还需混床抛光处理。　

４．　应用场景对比

•　工业用水　　

　　主要用于冷却（占工业用水量６０％～７０％）、洗涤等，对纯度要求宽松。　　

•　纯水　　

　　•　工业纯水：电镀、制药配液。　　

　　•　超纯水：集成电路光刻、高灵敏度实验，其纯度不足可能直接导致产品报废。　

５．　成本与环保考量

工业用水处理成本较低，而纯水（尤其是超纯水）因工艺复杂、能耗高，成本显著提升。例如，蒸馏法制备超纯水能耗大，仅适合小规模需求。　　

总结

工业用水强调“适用性”，纯水追求“极致纯度”。例如，反渗透出水虽称“纯净水”，但杂质含量仍比工业纯水高上千倍。选择时需平衡成本与需求，如电子行业必须使用超纯水，而普通冷却可接受常规工业用水。

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